tailieunhanh - Chế tạo vi mạch: Công nghệ in khắc nano sẽ soán ngôi công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại

Theo các chuyên gia, một thiết bị phơi sáng của ASML ở mức vài nanomet có giá bán tới 2 tỷ USD. Cho nên, tiền đầu tư cho một nhà máy chế tạo vi mạch tiên tiến ngày nay phải là nhiều tỷ USD chứ không còn là vài trăm triệu USD như trước. Sau đây, chúng ta sẽ cùng tìm hiểu công nghệ in khắc nano (NIL) của Công ty Canon (Nhật Bản) - ứng viên sáng giá cạnh tranh với công nghệ EUV của ASML. | KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ NƯỚC NGOÀI CHẾ TẠO VI MẠCH CÔNG NGHỆ IN KHẮC NANO SẼ SOÁN NGÔI CÔNG NGHỆ PHƠI SÁNG DÙNG TIA CỰC TỬ NGOẠI Đặng Lương Mô Giáo sư danh dự Đại học HOSEI Tokyo Nhật Bản Cố vấn Đại học Quốc gia TP Hồ Chí Minh Hiện nay trong chế tạo vi mạch công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại EUV trong quy trình quang khắc Lithography đang chiếm địa vị độc tôn . Công ty ASML Hà Lan hiện là nhà cung cấp hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc cho ngành công nghiệp bán dẫn. Theo các chuyên gia một thiết bị phơi sáng của ASML ở mức vài nanomet có giá bán tới 2 tỷ USD. Cho nên tiền đầu tư cho một nhà máy chế tạo vi mạch tiên tiến ngày nay phải là nhiều tỷ USD chứ không còn là vài trăm triệu USD như trước. Sau đây chúng ta sẽ cùng tìm hiểu công nghệ in khắc nano NIL của Công ty Canon Nhật Bản - ứng viên sáng giá cạnh tranh với công nghệ EUV của ASML. So sánh những thông số chính Hình 1 B tóm lược quy trình in khắc nano. Mặt nạ Hình 1 A cho thấy chùm tia sáng EUV biểu tượng là màu vàng trên đó đã ghi sẵn hình mạch điện tử được hình tam giác cân màu đậm nhất ở phía bên phải hình chiếu chùm tia EUV màu tím từ trên xuống. Hình mạch được phản xạ tổng cộng 11 lần trước khi chiếu xuống điện tử trên mặt nạ được trực tiếp in khắc xuống lớp nhũ mặt đế bán dẫn wafer màu xanh nhạt có lớp nhũ bề resist xanh chỉ một lần và toàn diện. mặt màu xanh thẫm hơn. Hình chữ nhật màu vàng là mặt nạ mask - nơi vẽ mạch điện tử. Thông qua so sánh ở bảng 1 có thể thấy hiện tại công nghệ EUV của ASML chiếm lợi thế về độ chính xác và Chùm tia EUV đã được phản xạ và thu nhỏ 4 lần mới được chiếu tới mặt nạ sau đó hình từ mặt nạ được phản năng lực xử lý cao. Còn công nghệ NIL của Canon có lợi chiếu thêm 6 lần nữa mới đạt tới lớp nhũ xanh bề mặt thế là chỉ cần xử lý 1 lần là xong tất cả các hình mạch wafer để in hình mạch điện tử xuống đó. điện tử phức tạp và tiêu thụ năng lượng thấp. Số 04 năm 2024 55 KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ NƯỚC NGOÀI A B Hình 1. So sánh công nghệ EUV của ASML A và công nghệ