tailieunhanh - Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 6: Rapid thermal processing

Lecture ECE 6450 Microelectronic - Chapter 6: Rapid thermal processing. After studying this section will help you understand Minimize redistribution of dopants, minimal sqrt(Dt) with maximal D (high Temperature) allows repair of damage from ion implantation. Cold walls allow multiple processes to occur without cross contamination. Photochemistry can be exploited. |

crossorigin="anonymous">
Đã phát hiện trình chặn quảng cáo AdBlock
Trang web này phụ thuộc vào doanh thu từ số lần hiển thị quảng cáo để tồn tại. Vui lòng tắt trình chặn quảng cáo của bạn hoặc tạm dừng tính năng chặn quảng cáo cho trang web này.