Đang chuẩn bị liên kết để tải về tài liệu:
Xử lý bức xạ và công nghệ bức xạ phần 4

31 + Phân bố liều trong sản phẩm đồng đều hơn so với nguồn 60Co và 137Cs (trường hợp Mmax = 5MeV) Hình 2.5 Phổ liên tục của bức xạ hãm 2.3.2 Mạch bức xạ Mạch bức xạ bao gồm chất chiếu xạ nằm trong vùng hoạt của lò phản ứng hoặc gần vùng hoạt (vùng phản xạ), vành đai chiếu xạ và hệ thống chuyển tải. Chất chiếu xạ chia làm 2 nhóm: a) Nhóm các chất không bị phân hạch bởi nơtron; b) Nhóm các chất bị phân hạch bởi nơtron. Nhóm thứ nhất có thể bao gồm: Hợp kim các kim. | 31 Phân bố liều trong sản phẩm đồng đều hơn so với nguồn 60Co và 137Cs trường hợp Mmax 5MeV Hình 2.5 Phổ liên tục của bức xạ hãm 2.3.2 Mạch bức xạ Mạch bức xạ bao gồm chất chiếu xạ nằm trong vùng hoạt của lò phản ứng hoặc gần vùng hoạt vùng phản xạ vành đai chiếu xạ và hệ thống chuyển tải. Chất chiếu xạ chia làm 2 nhóm a Nhóm các chất không bị phân hạch bởi nơtron b Nhóm các chất bị phân hạch bởi nơtron. Nhóm thứ nhất có thể bao gồm Hợp kim các kim loại nóng chảy In-Ga và In-Ga-Sn Na lỏng dung dịch muối của In và Mn. Tuy nhiên sau này người ta nhận thấy rằng các dạng dung dịch nước không thích hợp vì chúng tạo ra các sản phẩm khí cũng như quá trình ăn mòn điện hoá cao dễ đẫn tới các trục trặc trong việc truyền tải. Đã có các hệ vành đai chiếu xạ thực hành công suất 80 kCi In - Ga - Sn của atvia trong đó 96 hoạt độ là của 116In T1 2 54 12min Ey 1 15MeV . Tính toán cho thấy các dự án mạch bức xạ trên các lò năng lượng của một số nhà máy điện nguyên tử có hiệu quả kinh tế. Trong trường hợp này công suất có thể đạt được tới 300kW tương ứng với hoạt độ 20 2 MCi của nguồn 60Co. Các mạch bức xạ có thể có công suất bức xạ gamma cao hơn đối với các chất phóng xạ phân hạch các mảnh phân hạch . Có những dự án công suất mạch tới 0 5 MW. Nhìn chung công suất bức xạ gamma của các mạch bức xạ tương đối lớn - đó là điểm ưu việt so với 60Co và 137Cs. Tuy nhiên hoạt độ riêng của chất chiếu xạ thấp hơn hoạt độ riêng của 60Co. Đối với hợp kim In - Ga thấp hơn khoảng 2 3 lần đối với 24Na thấp hơn hàng chục lần do đó cần tới các thể tích chiếu lớn điều này gây ra những khó khăn về mặt kỹ thuật. Ngoài ra lò phản ứng cũng phải dành một công suất nhất định cho vành đai phóng xạ điều này làm phức tạp thêm tính an toàn vận hành lò phản ứng. 31 32 2.3.3 Bức xạ tử ngoại Trong những năm gần đây bức xạ tử ngoại cũng được dùng để xử lý bề mặt đặc biệt là trong lĩnh vực xử lý bao bì khâu mạch kết hợp hay khâu mạch ngoại lai. Người ta có thể kết hợp xử lý bề mặt giữa bức xạ tử ngoại và electron .