tailieunhanh - Biến tính bề mặt thủy tinh bằng plasma -Trùng hợp momome allylamine để cố định phần tử sinh học: Ứng dụng biochip

Các phần tử sinh học (chất kháng thể) được cố định trên lớp màng polyme có chứa các nhóm chức amine; lớp màng này được phủ lên trên bề mặt thủy tinh (hoặc thạch anh) theo phương pháp trùng hợp polyme bằng plasma thông thường (continuos wave) và plasma sóng xung (pulsed wave). | HỘI NGHỊ VẬT LÝ CHÁT RÁN TOÀN QUÓC LẦN THỨ 5 - Vũng Tàu 12-14 11 2007 BIẾN TÍNH BÈ MẶT THUỶ TINH BẰNG PLASMA-TRÙNG HỢP MONOME ALLYLAMINE ĐÈ CỐ ĐỊNH PHÀN TỬ SINH HỌC ỬNG DỤNG BIOCHIP Nguyễn Kiên Cường Fevzihan Basarir 2 1 Viện Khoa học Vật liệu IMS Viện Khoa học Công nghệ Việt nam VAST . 18 Hoàng Quốc Việt cầu Giấy Hà nội Việt nam 2 Khoa Khoa học Kỹ thuật Vật liệu Đại học Khoa học Công ngh Gwangju GIST E-mail kiencuong@ cuongnk@ TÓM TÁT Các phần từ sinh học chất kháng the được cố định ưên lóp màng polyme có chứa các nhỏm chức amine lớp màng này được phù lẽn trẽn bề mặt thủy tinh hoặc thạch anh theo phương phảp trùng hợp polyme bằng plasma thông thường continuos wave và plasma sóng xung pulsed wave . Quá trình phủ màng với allylamin monome được tiến hành bằng cách thay đổi cốc thông số công suất plasma công suất của thiết bị khi phát xạ plasma áp suất monome áp suất trong buồng plasma trong quá ữình chiếu xạ thời gian chiếu xạ chu kỳ xung plasma. Tối ưu hóa các thông số của quá trình phủ màng phim bàng phương plasma-trùng họp polyme nhằm tạo ra lớp màng polyme liên kết bền vững ưên nền thủy tinh và có các nhóm chức amin ở mật độ thích hợp trên cơ sở định lượng mật độ nhóm amin lớp bề mặt. Mật độ nhóm amin được định lượng sau khi chúng ta thử độ bền màng phủ polyme trong dung dịch phosphate buffered saline PBS trong 3 giờ ở trạng thái lác 100 rpm. Đê nhận biết định lượng nhóm amin trên bề mặt mẫu chúng tồi đánh dấu labeling các nhóm amin bàng phản ứng hóa học với chất 4-nitrobenzaldehyde 4-NBA fluorescein isothiocyanate FITC sau đó đo trên uv -Vis thiết bị phổ phát quang. Chủng tôi đã xác định điều kiện phủ màng tối ưu ở công suất 20W thời gian Imin và áp suẩt monome óOmTorr cho plasma-trùng hợp thong thường. Ờ điều kiện phù màng tối ưu này mật độ nhóm amin trên bề mặt mẫu là phân từ nm2 Trong khi đó trùng hợp bằng plasma xung tại chu kỳ xung 60 100 với cùng điều kiện công suất áp suẩt monomer thời gian chiếu xạ cho mật độ am in lên đến