tailieunhanh - Phún xạ phần 2

Tham khảo tài liệu 'phún xạ phần 2', kỹ thuật - công nghệ, năng lượng phục vụ nhu cầu học tập, nghiên cứu và làm việc hiệu quả | Phún xạ tiếp Hệ thống phóng điện cải tiến cho phún xạ Các thông số công nghệ thường dùng GAS MANIFOLD He0 s H2Q CATHODE rf OR de IN PUT Chân không 10-7torr Áp suất hơi Ar 1 - 5 mtorr - Điện áp 500 -1000 V một chiều hay xoay chiều tần số radio WATER- COOLED THERMIONIC EMITTER ROTATING SHUTTER - -H2O 1HZ SUBSTRATE HEATER . - DARK SPACE SHIELD ANODE IOOV PUMPING SYSTEM SUBSTRATE PLATEN rf OR de INPUT 2 2 2006 Đại học Bách khoa Hà Nội 11 Phún xạ tiếp Phún xạ hóa học Trong quá trình phún xạ một hay nhiều thành phần của vật liệu màng mỏng phún xạ tồn tại dưới dạng các ion tổ hợp mang điện và được vận chuyển bởi điện trường. Tại không gian gần tại bề mặt đế các thành phần đó tham gia phản ứng hóa học với các thành phần khác sẵn có hay cũng được vận chuyển tới để tạo thành vật liệu cuối cùng và lắng đọng trên bề mặt đế. Cần để ý tới hiện tượng ăn mòn rỉ do môi trường khí. 2 2 2006 Đại học Bách khoa Hà Nội 12 Phún xạ tiếp Phún xạ một chiều DC và xoay chiều tần số radio RF MATCHING NETWORK 13 56MHz r -V DC INSULATION TARGET J GLOW DISCHARGE SUBSTRATES ANODE GLOW DISCHARGE SPUTTERING VACUUM GAS SPUTTERING VACUUM GAS 2 2 2006 Đại học Bách khoa Hà Nội .